EMO Hannover 2019, 16. bis 21. September

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    KOMBINIERTES MODUL - Z3TH KOMBINIERTES MODUL

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    Produktbeschreibung

    Das Z3TH kombinierte Modul erweitert die Modulmöglichkeiten, welche oben auf bestehenden XY Plattformen sitzen können. Das Z3TH Modul, mit 4 Freiheitsgraden, ermöglicht eine 364° Theta Drehbewegung, doppelte Z-Achsen, eine Grobe für Waferbe- und Entladung und eine Genaue für Fokuseinstellung, sowie eine Kipp- und Neige-Korrektur von ±0,1°. Dieses Z3TH Modul ist eine gute Alternative zu Piezo basierenden Z Aktuatoren in dem es Hystereseeffekte und Nicht-Linearitäten im offenen Regelkreis beseitigt, während es einen besseren Schleppfehler in der Bewegung, sowie Wiederholgenauigkeit und ein verbesssertes Bewegungs- und Einschwingverhalten über einen noch längeren Verfahrweg bietet.

    Das Z3TH Modul ist in erster Linie für Applikationen im Bereich Front-End geeignet und bietet die richtige Lösung um alle Applikationen zu bewältigen, die folgendes erfordern:
    - Ausrichtung zwischen einem Prozesswerkzeug und dem Substrat
    - Erfassung / Korrektur der Ebenheit
    - Verbesserung des Bewegungs- und Einschwingverhaltens

    Bereits bestehende Applikationen sind dem Bereich der Back-End Lithographie und Wafer Prozessüberwachung zuzuordnen.

    Eigenschaften
    - 364° Theta Drehbewegung
    - Kipp- und Neige-Korrektur von ±0.1° zur Nivellierung und für die Verbesserung des Bewegungs- und - Einschwingverhaltens
    - Vakuumdurchführung bis zur Aufnahmevorrichtung
    - Doppelte Z Integration: Grobe Achse für Be- und Entladung und genaue Achse zur Fokuseinstellung
    - ISO Klasse 1, Reinraumkompatibilität
    - Geringer Rund- und Planlauffehler von ±1 µm

    Weitere Informationen sind im entsprechenden Integrationshandbuch enthalten.

    Produkt-Website

    Halle 9, Stand I32

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